Lam Research установила шаг 28 нм в области паттернинга высокого разрешения с помощью технологии сухого фоторезиста

14.01.2025 09:01

ФРЕМОНТ, Калифорния. 14 января 2025 г. /PRNewswire/ -- Корпорация Lam Research (Nasdaq: LRCX) сегодня объявила о том, что ее инновационная технология сухого фоторезиста (dry resist) была квалифицирована для прямой печати логики с шагом 28 нм на заднем конце линии (BEOL) при нормах 2 нм и ниже компанией imec, ведущим центром исследований и инноваций в области наноэлектроники и цифровых технологий.

LRCX

$301.11 -2.73%

Компания

Lam Research Corporation

Подробнее →

Главные акционеры Lam Research Corporation

У каких компаний и инвестиционных и хедж-фондов больше всего акций Lam Research Corporation на основании самых свежих данных, опубликованных на 30.09.2026

Компания	Доля в LRCX

Читайте телеграм-канал @klimovcom

Подписавшись на мой канал в Телеграме, вы гарантированно станете эрудированнее 90% окружающих вас людей. Тысячи подписчиков уже проверили это на себе.

Оригинал статьи

Lam Research Establishes 28nm Pitch in High-Resolution Patterning Through Dry Photoresist Technology

FREMONT, Calif. , Jan. 14, 2025 /PRNewswire/ -- Lam Research Corporation (Nasdaq: LRCX) today announced that its innovative dry photoresist (dry resist) technology has been qualified for direct-print 28nm pitch back end of line (BEOL) logic at 2nm and below by imec, a leading research and innovation hub in nanoelectronics and digital technologies.

Полная версия: prnewswire.com